真空鍍膜機濺鍍的原理是什么

濺鍍，一般指的是磁控濺鍍，歸于高速低溫濺鍍法.

該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布，即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，因為輝光放電(glow discharge)發生的電子激起慵懶氣體，發生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子轟出，堆積在塑膠基材上.

真空鍍膜機濺鍍的原理是什么

以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊資料外表，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額(Yield)產額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等較高，Ti,Mo,Ta,W等較低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電(glow discharge)發生，在10-1—10 Pa真空度，在兩較間加高壓發生放電，正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。

正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質與形狀、氣體品種壓力等有關。濺鍍時應盡也許保持其安穩。任何資料皆可濺射鍍膜，即便高熔點資料也簡單濺鍍，但對非導體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因導電性較差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2，非金屬<5W/cm2

二較濺鍍射：靶材為陰極，被鍍工件及工件架為陽極，氣體(氬氣Ar)壓力約幾Pa或更高方可得較高鍍率。

磁控濺射：在陰極靶外表構成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而進步離子密度，使得濺鍍率進步(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是現在較有用的鍍膜技能之一。

其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技能


3.裝飾膜的鍍制工藝
金屬件裝飾膜鍍制工藝:比較成熟的鍍膜技術有電弧離子鍍、磁控濺射離子鍍和復合離子鍍。
塑料件裝飾膜鍍制工藝:采用PVD技術可在玻璃、陶瓷、塑料、水晶、木材、紙張等非金屬工件上鍍制金屬膜及氮化膜、氧化膜。此處重點介紹塑料制品裝飾膜的鍍制技術，塑料制品鍍金屬膜的工藝也稱塑料金屬化。塑料制品裝飾膜的PVD技術有兩種：真空蒸發鍍和磁控濺射鍍。 

鍍膜技術在裝飾品方面的應用
隨著經濟的發展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。
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