北京冠金利新材料科技有限公司為您供應高純鋁靶材及鋁的相關鍍膜產品，主要包括：
 1、 高純鋁靶:本公司供應適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鋁靶材。
 2、 高純鋁靶材純度為：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。
 3、 高純鋁靶材的規格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鋁靶，150*100*3平面高純板鋁靶材，（2）磁控濺射用高純鋁靶：?100*120柱靶等。
 4、 高純鋁靶的原材料生產工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。
 5、 高純鋁靶材加工工藝：車，銑，等。
 6、高純鋁靶材相關參數的介紹：外觀：銀白色 密度：2.70 g/cm3 熔點： 660℃沸點：2463
 北京冠金利新材料科技有限公司長期供應高純鈦及高純鈦靶，高純鈦靶材，純度為99.9%-99.999%，本公司專業生產金屬鍍膜材料，鈦靶是我們的主營靶材之一，主要用于濺射鍍膜，各大科研院所及高校實驗。高純鈦靶的相關介紹如下：
 1、 高純鈦靶材的純度為99.5%，99.9%，99.99%，99.999%。
 2、 平面高純鈦靶材常用規格：?100*40，?76.2*6，100*400*10等。
 3、 柱狀高純鈦靶：100*80，125*63等等。
 4、 高純鈦靶的規格尺寸可根據客戶要求定做，也可按圖紙加工。
 5、 高純鈦靶的生產工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術。
 6、 蒸鍍用高純鈦絲：?0.2-3。
 7、 蒸發用高純鈦顆粒:6*6,2*10,3*3等。
 北京冠金利新材料科技有限公司長期為您供應高純銅，高純銅靶，高純銅靶材，銅靶材及其相關產品，產品如下：
 1、高純銅靶：平面靶常用規格如圓銅靶?76.2*5板靶：400*100*10 ，2、高純銅靶磁控旋轉柱靶，如?65*80等。
 3、高純銅靶純度為99.95%-99.9999%。
 4、高純銅靶產品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應用真空鍍膜的各種領域：科學研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產業，光源，光學，裝飾，平面顯示器產業，信息存儲產業，數據存儲等等。
 5、各種規格尺寸可根據客戶要求定做，也可按圖紙加工。