
青島賽瑞得偉創(chuàng)電子科技有限公司是專注高端半導(dǎo)體工藝裝備研發(fā)制造的國家高新技術(shù)企業(yè),本次推出的磷化銦單晶爐高壓生長設(shè)備,是面向磷化銦單晶材料生長場景的專用高溫工藝裝備。
該設(shè)備可適配科研樣機(jī)、中試設(shè)備、工業(yè)化量產(chǎn)設(shè)備多梯度機(jī)型定制,常規(guī)尺寸、材質(zhì)、核心性能參數(shù)可根據(jù)客戶工藝需求匹配設(shè)計,未明確參數(shù)可標(biāo)注【待客戶確認(rèn)】。
設(shè)備依托企業(yè)跨學(xué)科復(fù)合型技術(shù)團(tuán)隊打造,深耕熱場設(shè)計、精密溫控、真空氣氛、自動化控制等核心技術(shù),具備高壓生長環(huán)境穩(wěn)定控制、工藝精度可靠的特點,可適配磷化銦單晶生長相關(guān)工藝場景。
企業(yè)擁有8000㎡自有產(chǎn)業(yè)基地與專業(yè)潔凈裝配廠房,具備設(shè)備研發(fā)+工藝適配+現(xiàn)場落地+量產(chǎn)優(yōu)化全流程技術(shù)能力,可降低客戶工藝試錯成本,產(chǎn)品價格面議,可按需提供定制化方案。
青島賽瑞得偉創(chuàng)電子科技有限公司經(jīng)營范圍包括:LPCVD低壓氣相沉積、LPCVD低壓氣相沉積設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積系統(tǒng)、LPCVD低壓氣相沉積爐管、LPCVD低壓氣相沉積裝置、LPCVD低壓氣相沉積工藝設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積鍍膜設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積半導(dǎo)體設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積真空設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積薄膜設(shè)備、LPCVD低壓氣相沉積量產(chǎn)設(shè)備、法拉*旋光片液相外延爐、法拉*旋光片液相外延爐設(shè)備、法拉*旋光片液相外延爐系統(tǒng)、法拉*旋光片LPE液相外延爐、法拉*旋光片液相外延爐生長設(shè)備、法拉*旋光片液相外延爐磁光晶體設(shè)備、
