青島賽瑞得偉創(chuàng)電子科技有限公司位于青島城陽，擁有8000㎡產(chǎn)業(yè)基地與潔凈裝配廠房，專注半導(dǎo)體熱工藝裝備研發(fā)制造。其中LPCVD低壓氣相沉積系統(tǒng)面向薄膜沉積工藝，兼顧科研樣機與工業(yè)化量產(chǎn)需求。

規(guī)格與材質(zhì)
設(shè)備采用立式爐體結(jié)構(gòu)，尺寸與裝片量可按客戶工藝需求定制；爐體、真空腔體及氣路系統(tǒng)選用耐高溫、耐腐蝕材料，潔凈裝配廠房內(nèi)完成整機集成與調(diào)試。

主要參數(shù)
工作壓力常見0.1~10Torr范圍，工藝溫度常見400~800℃，溫控精度與膜厚均勻性按工藝要求配置，具體參數(shù)以技術(shù)協(xié)議確認(rèn)。

用途與特點
適用于氧化硅、多晶硅、氮化硅等薄膜沉積，服務(wù)于集成電路、MEMS傳感器及科研實驗場景。設(shè)備支持非標(biāo)定制，具備真空氣氛與自動化控制配置，出廠前完成潔凈調(diào)試與檢測驗證。價格面議，來電詢價。

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